جهت مطالعه بقیه مطالب پیرامون آزمون های الکتروشیمیایی اینجا کلیک کنید. نرم افزار EC-Lab یکی از شناخته شده ترین نرم افزارهای حوزه الکتروشیمی و به طور خاص خوردگی است که در آن می توان تحلیل های مطلوبی از آزمون های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) و آزمون پلاریزاسیون تافل ارائه…
جهت مطالعه بقیه مطالب پیرامون آزمون های الکتروشیمیایی اینجا کلیک کنید. معمولا جهت بدست آوردن پارامترهای الکتروشیمیایی حاصل از فیت داده های آزمون طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) از نرم افزارهایی همچون Zsimp و Zview استفاده می شود. در این نرم افزار ها می توانید با انتخاب مدار معادل الکتریکی…
جهت مطالعه بقیه مطالب پیرامون آزمون های الکتروشیمیایی اینجا کلیک کنید. نرم افزار zivew یکی از پرکاربردترین نرم افزارهای حوزه خوردگی جهت فیت منحنی های امپدانس الکتروشیمیایی (نایکوئیست و باد) است. یکی از مشکلات استفاده از ورژن های جدیدتر نرم افزار Zview لزوم خرید لایسنس و عدم نمایش کامل داده…
در این تکنیک دو الکترود همسان به همراه الکترود مرجع، بدون اعمال پتانسیل و جریان خارجی درون محلولی قرار گرفته و اغتشاشات پتانسیلی و جریانی که به یکدیگر وارد می کنند توسط نموداری بر حسب زمان رسم می شود. نهایتا این امواج توسط نرم افزارهایی تحلیل و فرآیند خوردگی بررسی…
جهت مطالعه بقیه مطالب پیرامون آزمون های الکتروشیمیایی اینجا کلیک کنید. نرم افزار NOVA شناخته شده ترین نرم افزارها جهت انجام تحلیل آزمون های خوردگی (پلاریزاسیون تافل و امپدانس) می باشد. این نرم افزار را می توانید از لینک زیر خریداری نمایید. جهت دریافت فایل آموزش گام به گام روش…
جهت مطالعه بقیه مطالب پیرامون آزمون های الکتروشیمیایی اینجا کلیک کنید. در این مطلب ترجمه مقاله بسیار معروف Basics of Electrochemical Impedance Spectroscopy که در زمینه آزمون امپدانس الکتروشیمیایی جزء مقالات مرجع می باشد آمده است. جهت دانلود فایل ترجمه این مقاله از لینک زیر اقدام به خریداری فرمایید برای…
جهت مطالعه دیگر مطالب پیرامون آزمون XRD و XRF اینجا کلیک کنید. همچنین جهت انجام تست، تعرفه این آزمون را می توانید از اینجا مشاهده فرمایید XRD یا همان پراش اشعه ایکس (X-RAY DIFFRACTION) تکنیکی قدیمی و پرکابرد در بررسی خصوصیات کریستال‌ها می‌باشد. در این روش از پراش اشعه ایکس توسط نمونه جهت…
جهت مطالعه دیگر مطالب پیرامون آزمون XRD و XRF اینجا کلیک کنید. عوامل مؤثر بر شدت پیک: از عواملی که بر شدت پیک ها در الگوهای پراش تأثیر گذار هستند می توان به موارد زیر اشاره کرد: همچنین جهت انجام تست، تعرفه این آزمون را می توانید از اینجا مشاهده…
جهت مطالعه همه مطالب پیرامون آزمون XPS اینجا کلیک کنید. تاریخچه: در سال 1887 اثر فوتوالکتریک توسط هانریش هرتز کشف شد،در سال 1905 اینشتین این مسئله را با استفاده از فیزیک کوانتم توضیح داد و جایزه نوبل 1921 را از آن خود کرد. در 1907 فردی به نام P.D.Innes با استفاده از لامپ کاتدیسیم پیچ…
برای دیدن همه مطالب پیرامون آزمون های میکروسکوپی اینجا کلیلک کنید. با توجه به گوناگونی مفاهیم مرتبط با رفتار بین نمونه و الکترون، تکنیک های متعددی مرتبط با کار میکروسکوپ الکترونی عبوری وجود دارد. بر این اساس و جهت تصویرسازی در TEM، در ابتدا یک الگو با استفاده از پرتوهای عبوری…